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      迪爾填料為您介紹何為空分及空分裝置系統(tǒng)流程

      更新時間:2020-02-19      點擊次數(shù):3936

      提到“空分”,顧名思義簡單的說,就是用來把空氣中各組份氣體分離,生產(chǎn)氧氣、氮氣和氬氣的一套工業(yè)設備。還有稀有氣體氖、氬、氪、氫等。具體流程為:自空壓機來的壓縮空氣,經(jīng)分子篩除去水份、二氧化碳、碳氫化合物等雜質(zhì)后,一部分空氣被直接送往精餾塔的上塔,另一部分則進入膨脹機經(jīng)膨脹制冷后,被送往下塔。精餾塔中,上升蒸汽和下落液體經(jīng)熱量交換后,在上塔的頂部可得到純度很高的氮氣,在上塔底部可得到純度很高的氧氣。

      綜上所述,迪爾填料小編先簡單的說下空分系統(tǒng)流程包括:1.壓縮系統(tǒng) 2.預冷系統(tǒng)  3.純化系統(tǒng)  4.換熱系統(tǒng) 5.產(chǎn)品送出系統(tǒng) 6.膨脹制冷系統(tǒng) 7.精餾塔系統(tǒng)  8.液體泵系統(tǒng)  9.產(chǎn)品壓縮系統(tǒng)。

       目前國內(nèi)有很多空分裝置項目,比如浙江空銳空分、四川空分、杭州含氧空分,一直是迪爾填料公司多年合作的客戶,供貨多的成品是分子篩,因為分子篩需除去水份、二氧化碳等化合物的雜質(zhì),另一種成品就是活性氧化鋁活性氧化鋁干燥劑、白色球、吸附水的能力強。在一定的操作條件和再生條件下它的干燥深度高達露點溫度-70℃以下,是一種微量水深度干燥的高效干燥劑。廣泛用于石油化工的氣、液相干燥,用于紡織工業(yè)、制氧工業(yè)以及自動化儀表風的干燥,空分行業(yè)變壓吸附等。由于單分子吸附層凈熱量高,所以非常適用于無熱再生裝置。以下為迪爾填料公司供貨給四川空分公司活性氧化鋁的技術指標參數(shù):

       

      型號     項目

      KA401吸附劑

      KA402除氟劑

      KA403雙氧水

      KA404雙氯劑

      KA405催化劑載體

      KA406空分吸附劑

      外觀形狀

         白色,球形

      主晶相

      Χ-ρ

      Χ-ρ

      Υ

      Χ-ρ

      Υ

      Χ-ρ

      化學成分%

       Al2O3

      ≥90

      ≥90

      ≥92

      ≥90

      ≥93

      ≥90

       I.L

       6-8

      6- 8

      ≤8

      ≤8

      ≤7

      ≤9

      堆密度 g/ml

      ≥0.65

      0.70-0.75

      0.65-0.75

      0.68-0.78

      0.68-0.78

      0.68-0.75

      比表面積 m2/g

      ≥280

      ≥280

      200-260

      ≥300

      ≥200

      ≥300

      孔容  ml/g

      0.3-0.45

      0.3-0.42

      0.4-0.45

      ≥0.35

      ≥0.4

      ≥0.35

      靜態(tài)吸附率 %

      吸水率>16

      吸氟率>0.12

      吸水率>50

      率10-20

      吸水率50-70

      吸水率≥18

      磨耗率  %

      ≤0.4

      ≤0.4

      ≤0.5

      ≤0.4

      ≤0.4

      ≤0.4

      抗壓強度

      Φ1-2

      ≥40

      ≥40

       

      ≥40

       

       

      Φ2-3

      ≥60

      ≥60

       

      ≥80

       

      ≥80

      Φ3-5

      ≥100

       

      ≥100

      ≥100

      ≥100

      ≥100

      Φ4–6

      ≥130

       

      ≥130

      ≥130

      ≥140

      ≥130

      Φ6-8

      ≥200

      ≥200

      ≥200

      ≥200

      ≥220

      ≥200

       

      以上是簡單的空分裝置系統(tǒng)流程及空分裝置項目中用活性氧化鋁球的簡單說明,如需了解理多,歡迎前來指導考察或交流。

       

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